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安普(成都)拋光材料生產(chǎn)廠家

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稀土拋光粉生產(chǎn)工藝

2019-11-14 10:12:07  1703 次瀏覽

稀土拋光粉主要成份為二氧化鈰(CeO2),其次分別為氧化鑭(La2O3)、氧化鐠(Pr2O3)、氧氟化鑭(LaOF),此外還含有微量的氧化硅、氧化鋁和氧化鈣。下面就說(shuō)說(shuō)稀土拋光粉的生產(chǎn)工藝。

一、*高鈰系稀土拋光粉的生產(chǎn)

1.以稀土混合物分離后的氧化鈰為原料,以物理化學(xué)方法加工成硬度大、粒度均勻、細(xì)小,呈面心立方晶體的粉末產(chǎn)品。

2.其主要工藝過(guò)程為 : 原料 → 高溫 → 煅燒 → 水淬 → 水力分級(jí) → 過(guò)濾 → 烘干 → 高鈰稀土拋光粉產(chǎn)品。主要設(shè)備有 : 煅燒爐,水淬槽,分級(jí)器,過(guò)濾機(jī),烘干箱。 主要指標(biāo) : 產(chǎn)品中w(REO)=0.99 ,w(CeO2)=0.99; 稀土回收率約0.95.該產(chǎn)品適用于高速拋光。這種高鈰拋光粉很早代替了古典拋光的氧化鐵粉(紅粉)。

二、*中鈰系稀土拋光粉的制備

1.用混合稀土氫氧化物(w(REO)=0.65 ,w(CeO2)≥0.48) 為原料,以化學(xué)方法預(yù)處理得稀土鹽溶液,加入中間體( 沉淀劑) 使轉(zhuǎn)化成 w(CeO2)=0.80 ~ 0.85 的中級(jí)鈰系稀土拋光粉產(chǎn)品。其主要工藝過(guò)程為:

原料 → 氧化 → 優(yōu)溶 → 過(guò)濾 → 酸溶 → 沉淀 → 洗滌過(guò)濾 → 高溫煅燒 → 細(xì)磨篩分 → 中級(jí)鈰系 稀土拋光粉產(chǎn)品。

2.主要設(shè)備有 : 氧化槽,優(yōu)溶槽,酸溶槽,沉淀槽,過(guò)濾機(jī),煅燒爐,細(xì)磨篩分機(jī)及包裝機(jī)。

3.主要指標(biāo) : 產(chǎn)品中 w(REO)=0.90, w(CeO2) =0.80 ~ 0.85 ; 稀土催化材料回收率約0.95 ; 平均粒度 0.4 微米 ~ 1.3微米 .該產(chǎn)品適用于高速拋光,比高級(jí)鈰稀土拋光粉進(jìn)行高速拋光的性能更為優(yōu)良。

三、*低鈰系稀土拋光粉的制備

1.以少銪氯化稀土 (w(REO)≥0.45 ,w(CeO2)≥0.48) 為原料,以合成中間體( 沉淀劑) 進(jìn)行復(fù)鹽沉淀等處理,可制備低級(jí)鈰系稀土拋光粉產(chǎn)品。

其主要工藝過(guò)程為 : 原料 → 溶解 → 復(fù)鹽沉淀 → 過(guò)濾洗滌 → 高溫煅燒 → 粉碎 → 細(xì)磨篩分 → 低級(jí)鈰系稀土拋光粉產(chǎn)品。

2.主要設(shè)備有 : 溶解槽,沉淀槽,過(guò)濾機(jī),煅燒爐,粉碎機(jī),細(xì)磨篩分機(jī)。

3.主要指標(biāo) : 產(chǎn)品中 w(REO)=0.85 ~ 0.90 , w(CeO2)=0.48 ~ 0.50; 稀土回收率約 0.95; 平均粒徑 0.5微米~ 1.5微米 .

4.目前,國(guó)內(nèi)生產(chǎn)的低級(jí)鈰系稀土拋光粉的量很多,約占總產(chǎn)量的0.90以上。

以上就是關(guān)于三種稀土拋光粉的生產(chǎn)工藝,知道這些后對(duì)我們以后的選擇也有一定幫助,用戶(hù)也能更好的挑選適合自己的產(chǎn)品。

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