電解過程中，氧的陰離子與鋁作用產(chǎn)生氧化膜。這種膜初形成時(shí)還不夠細(xì)密，有一定的電阻，使電解液中的負(fù)氧離子仍能到達(dá)鋁表面繼續(xù)形成氧化膜。隨著膜厚度的增長，電阻變大，電解電流變小，而與電解液接觸的外層氧化膜同時(shí)發(fā)生化學(xué)溶解，在鋁表面形成氧化物的速度漸與化學(xué)溶解的速度平衡時(shí)，這一氧化膜便可達(dá)到這一電解參數(shù)下的厚度。鋁的陽極氧化膜的結(jié)構(gòu)與其他轉(zhuǎn)化膜有所不同,靠近基體金屬部分的是0.01～0.1微米的致密層，其上是許多空心六角柱體所構(gòu)成的蜂房狀層，總厚度為2～100微米不等。