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納米級(jí)硅溶膠應(yīng)用于電子拋光CMP磨料氧化硅拋光液

2024-11-01 03:38:32  33次瀏覽 次瀏覽
價(jià) 格:8

硅溶膠廣泛用作3C產(chǎn)品和晶圓、芯片、半導(dǎo)體等精密電子元器件生產(chǎn)的研磨材料。硅溶膠的超細(xì)膠粒能夠有效地拋光表面,確保平整度,同時(shí)小化表面缺陷。

磨料載體:硅溶膠作為磨料的主要載體,在拋光過(guò)程中提供磨料的分散和固定,并在拋光過(guò)程中釋放磨料以實(shí)現(xiàn)材料的研磨和去除。

控制拋光速度:硅溶膠的粒徑分布可以影響拋光速度和表面質(zhì)量。通過(guò)調(diào)整硅溶膠的粒徑及相關(guān)參數(shù),可以實(shí)現(xiàn)對(duì)拋光速度的 控制,提高生產(chǎn)效率。

表面質(zhì)量改善:硅溶膠膠粒的細(xì)小尺寸有助于填補(bǔ)微小的表面缺陷,提高拋光的表面質(zhì)量。它能夠平滑表面、去除劃痕和瑕疵,實(shí)現(xiàn)更光滑和均勻的表面。

控制拋光壓力:硅溶膠作為拋光液中主要成分,可以調(diào)節(jié)拋光液的黏度和流動(dòng)性,從而控制拋光時(shí)的壓力。適當(dāng)?shù)膾伖鈮毫τ兄谔岣邟伖獾乃俾?,同時(shí)避免劃傷或其他拋光缺陷,實(shí)現(xiàn)拋光效率和拋光質(zhì)量的平衡。

熱穩(wěn)定性:硅溶膠具有良好的熱穩(wěn)定性和耐熱性,它能夠在研拋過(guò)程中保持研拋介質(zhì)溫度的基本穩(wěn)定,減少熱應(yīng)力對(duì)設(shè)備和產(chǎn)品的影響,并提供持久的拋光性能。

優(yōu)勢(shì):1.超高純度硅溶膠以降低污染和表面缺陷的風(fēng)險(xiǎn)

2.大膠粒尺寸的硅溶液以實(shí)現(xiàn)更好的拋光速度并保證產(chǎn)品的表面質(zhì)量

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