在制造環(huán)境中，人們所關注的微粒尺寸一般都比較大，它們不會像煙霧那樣散開，而會掉到組件的表面上，所以與在半導體潔凈室中的空氣控制方案完全不同。另外，人們關注的范圍也越來越窄，需要控制的污染物的尺寸的直徑在80至120μm之間，小的在40至60μm之間，例如金屬、類污染物。這些用戶的目標與常規(guī)潔凈室用戶的沒有什么兩樣：防止產(chǎn)品出現(xiàn)用肉眼看得到的缺陷和功能性缺陷。

非單向流潔凈室：以前常稱為亂流型潔凈室，室內(nèi)的氣流并不都按單一方向流動。非單向流潔凈室有幾個共同的特點：終端過濾器（或亞）盡量接近潔凈室，它可以就是送風口或直接連送風口，也可以接到房間的送風靜壓箱上；回風口均設在潔凈室的下部，目的是避免出現(xiàn)“揚灰”現(xiàn)象。非單向流潔凈室中都有渦流存在，不適宜用于高潔凈度的潔凈室中，宜用于6~9級的潔凈室中。

當產(chǎn)品要求潔凈度為100級時，選用層流流型；當產(chǎn)品要求潔凈度為1000~100000級時，選用亂流流型。

減少渦流，避免把工作區(qū)以外的污染物帶入工作區(qū)。

為了防止灰塵的二次飛揚，氣流速度不能過大。亂流潔凈室的回風口不應設在工作區(qū)的上部。宜在地板上或側(cè)墻下部均勻布置回風口。

在生產(chǎn)工藝平面區(qū)劃時盡可能把相同級別的潔凈房間布置在一起，把潔凈度要求高的工序設置在上風側(cè)，把產(chǎn)生粉灰、有毒、有害、易燃、易爆廢氣的工藝設備、容器盡可能放在潔凈區(qū)外，若必須放在潔凈區(qū)內(nèi)時應盡量采取密閉措施以減少粉塵和廢氣的排放量。