潔凈室的發(fā)展與現(xiàn)代工業(yè)、技術(shù)密切聯(lián)系在一起。由于精密機械工業(yè)（如陀螺儀、微型軸承等加工）、半導(dǎo)體工業(yè)（如大規(guī)模集成電路生產(chǎn)）等對環(huán)境的要求，促進了潔凈室技術(shù)的發(fā)展。國內(nèi)曾統(tǒng)計過，在無潔凈級別的要求的環(huán)境下生產(chǎn)MOS電路管芯的合格率僅10%~15%，64位儲存器僅2%。目前在精密機械、半導(dǎo)體、宇航、原子能等工業(yè)中應(yīng)用潔凈室已相當(dāng)普遍。

按受控粒子的性質(zhì)劃分

（1）工業(yè)潔凈室：受控粒子為塵埃等非生物粒子的潔凈室。

（2）生物潔凈室：受控粒子為生物粒子的潔凈室。

當(dāng)產(chǎn)品要求潔凈度為100級時，選用層流流型；當(dāng)產(chǎn)品要求潔凈度為1000~100000級時，選用亂流流型。

減少渦流，避免把工作區(qū)以外的污染物帶入工作區(qū)。

為了防止灰塵的二次飛揚，氣流速度不能過大。亂流潔凈室的回風(fēng)口不應(yīng)設(shè)在工作區(qū)的上部。宜在地板上或側(cè)墻下部均勻布置回風(fēng)口。

工作區(qū)的氣流應(yīng)均勻，流速必須滿足工藝和衛(wèi)生的要求；潔凈氣流應(yīng)盡可能把工作部位圍罩起來，使污染物在擴散之前便流向回風(fēng)口。

工作設(shè)備布置時要留有一定的間隔，為送、回風(fēng)口的布置和氣流的通暢創(chuàng)造條件：氣流組織設(shè)計時要考慮高大設(shè)備對氣流組織的影響。