CHOTEST中圖儀器SuperViewW1白光干涉三維光學(xué)輪廓儀是以白光干涉技術(shù)原理,對(duì)各種精密器件表面進(jìn)行納米級(jí)測(cè)量的儀器,通過(guò)測(cè)量干涉條紋的變化來(lái)測(cè)量表面三維形貌,專用于精密零部件之重點(diǎn)部位表面粗糙度、微小形貌輪廓及尺寸的非接觸式快速測(cè)量。它具有測(cè)量精度高、操作便捷、功能齊全、測(cè)量參數(shù)涵蓋面廣的優(yōu)點(diǎn),測(cè)量單個(gè)精細(xì)器件的過(guò)程用時(shí)2分鐘以內(nèi),確保了高款率檢測(cè)。白光干涉儀的特殊光源模式,可以廣泛適用于從光滑到粗糙等各種精細(xì)器件表面的測(cè)量。
應(yīng)用領(lǐng)域?qū)Ω鞣N產(chǎn)品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、波紋度、面形輪廓、表面缺陷、磨損情況、腐蝕情況、孔隙間隙、臺(tái)階高度、彎曲變形情況、加工情況等表面形貌特征進(jìn)行測(cè)量和分析。
技術(shù)指標(biāo)
型號(hào)W1
光源白光LED影像系統(tǒng)1024×1024干涉物鏡標(biāo)配:10×
選配:2.5×、5×、20×、50×、100×
光學(xué)ZOOM
標(biāo)配:0.5×
選配:0.375×、0.75×、1×
標(biāo)準(zhǔn)視場(chǎng)0.98×0.98㎜(10×物鏡,光學(xué)ZOOM 0.5×)
XY位移平臺(tái)
尺寸
320×200㎜移動(dòng)范圍140×100㎜負(fù)載10kg控制方式電動(dòng)Z軸聚焦行程100㎜控制方式電動(dòng)形貌重復(fù)性0.1nm粗糙度RMS重復(fù)性0.005nm
臺(tái)階測(cè)量準(zhǔn)確度:0.3%;重復(fù)性:0.08%(1σ)
可測(cè)樣品反射率0.05%~主機(jī)尺寸700×606×920㎜
產(chǎn)品功能1)SuperViewW1白光干涉三維光學(xué)輪廓儀設(shè)備提供表征微觀形貌的粗糙度和臺(tái)階高、角度等輪廓尺寸測(cè)量功能;
2)測(cè)量中提供自動(dòng)對(duì)焦、自動(dòng)找條紋、自動(dòng)調(diào)亮度等自動(dòng)化輔助功能;
3)測(cè)量中提供自動(dòng)拼接測(cè)量、定位自動(dòng)多區(qū)域測(cè)量功能;
4)分析中提供校平、圖像修描、去噪和濾波、區(qū)域提取等四大模塊的數(shù)據(jù)處理功能;
5)分析中提供粗糙度分析、幾何輪廓分析、結(jié)構(gòu)分析、頻率分析、功能分析等五大分析功能;
6)分析中同時(shí)提供一鍵分析和多文件分析等輔助分析功能。
結(jié)果組成:
1、三維表面結(jié)構(gòu):粗糙度,波紋度,表面結(jié)構(gòu),缺陷分析,晶粒分析等;
2、二維圖像分析:距離,半徑,斜坡,格子圖,輪廓線等;
3、表界面測(cè)量:透明表面形貌,薄膜厚度,透明薄膜下的表面;
4、薄膜和厚膜的臺(tái)階高度測(cè)量;
5、劃痕形貌,摩擦磨損深度、寬度和體積定量測(cè)量;
6、微電子表面分析和MEMS表征。
超精密加工
針對(duì)芯片封裝測(cè)試流程的測(cè)量需求,SuperViewW1白光干涉三維光學(xué)輪廓儀的X/Y方向標(biāo)準(zhǔn)行程為140*100mm,滿足減薄后晶圓表面大范圍多區(qū)域的粗糙度自動(dòng)化檢測(cè)、鐳射槽深寬尺寸、鍍膜臺(tái)階高等微納米級(jí)別精度的測(cè)量。而SuperViewW1-Pro 型號(hào)增大了測(cè)量范圍,可覆蓋8英寸及以下晶圓,定制版真空吸附盤,穩(wěn)定固定Wafer;氣浮隔振+殼體分離式設(shè)計(jì),隔離地面震動(dòng)與噪聲干擾。
白光干涉儀是目前三維形貌測(cè)量領(lǐng)域高精度的檢測(cè)儀器之一。在同等放大倍率下,測(cè)量精度和重復(fù)性都高于共聚焦顯微鏡和聚焦成像顯微鏡。在一些納米或者亞納米級(jí)別的超高精度加工領(lǐng)域,除了白光干涉儀,其它儀器達(dá)不到檢測(cè)的精度要求。