硅片回收的再利用情況

其實(shí)不用說大家都知道要如何來對(duì)硅片回收進(jìn)行再利用。其實(shí)在我們使用硅片的時(shí)候往往他會(huì)產(chǎn)生比較多的廢水，要是我們能夠把這個(gè)問題解決好的話，那相信我們的硅片回收還能夠再進(jìn)一步。我們還可以對(duì)硅片回收進(jìn)行改造，只是說這個(gè)過程可能大家并不是那么的熟悉和了解，但是這些方面的問題我們都能夠進(jìn)一步的去解決和調(diào)整。不管進(jìn)行什么操作我們都應(yīng)該要明確我們的作業(yè)目的和要求，不然的話還是會(huì)出現(xiàn)問題的。

單晶硅的提煉：純度不高的單質(zhì)硅可用金屬鎂或鋁還原二氧化硅制得，但這是無定形硅。晶形硅則要在電弧爐內(nèi)用碳還原二氧化硅制得，它可用來生產(chǎn)硅鋼片。用作半導(dǎo)體的超純硅的制法則是先用純度不高的硅與氯化氫和氯氣的混合物作用，制取三氯氫硅，并用精餾法提純。然后在還原爐內(nèi)用純氫將三氯氫硅還原，硅就沉積在用超純硅制成的細(xì)芯上，這樣制得的超純硅稱為多晶硅，把它放在單晶爐內(nèi)，就可拉制成單晶硅，可用作半導(dǎo)體材料，它的來源豐富，價(jià)格便宜，大部分半導(dǎo)體材料都用硅

具體流程介紹如下：切片：將單晶硅棒切成具有幾何尺寸的薄硅片。此過程中產(chǎn)生的硅粉采用水淋，產(chǎn)生廢水和硅渣都可以利用。退火：雙工位熱氧化爐經(jīng)氮?dú)獯祾吆?，用紅外加熱至300~500℃，硅片表面和氧氣發(fā)生反應(yīng)的材料，使硅片技術(shù)表面形成二氧化硅再次生產(chǎn)。倒角：將退火的硅片進(jìn)行修整成圓弧形，防止硅片邊緣破裂及晶格缺陷產(chǎn)生，增加磊晶層及光阻層的平坦度。此過程中產(chǎn)生的硅片廢水和硅渣。硅片再利用一直秉承“變廢為寶、凈化環(huán)境”的理念，融合專業(yè)的服務(wù)體系和先進(jìn)的再加工技術(shù)，為國(guó)家的環(huán)保事業(yè)，做出著應(yīng)有的貢獻(xiàn)。

對(duì)硅片行業(yè)稍微有些了解的人都應(yīng)該知道，廢硅片回收之后是必須要清洗的，而且我們還要對(duì)清洗過程給予必要的重視，不能馬馬虎虎，因?yàn)楣杵厥涨逑吹男蕦⒅苯佑绊懙狡骷某善仿?、性能和可靠性。下面我們就來了解一下費(fèi)硅片回收清洗的重要性。

現(xiàn)在人們已研制出了很多種可用于廢硅片回收清洗的工藝方法和技術(shù)，常見的有：濕法化學(xué)清 洗、超聲清洗法、兆聲清洗法、鼓泡清洗法、擦洗法、高壓噴射法、離心噴射法、流體力學(xué)法、流體動(dòng)力學(xué)法、干法清洗、微集射束流法、激光束清洗、冷凝噴霧技 術(shù)、氣相清洗、非浸潤(rùn)液體噴射法、廢硅片回收在線真空清洗技術(shù)、RCA標(biāo)準(zhǔn)清洗、等離子體清洗、原位水沖洗法等。這些方法和技術(shù)現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于廢硅片回收 加工和器件制造中的廢硅片回收清洗。

表面沾污指硅表面上沉積有粒子、金屬、有機(jī)物、濕氣分子和自然氧化物等的一種或幾種。超純表面定義為沒有沾污的表面, 或者是超出檢測(cè)量極限的表面。