拋光

拋光是指利用 機(jī)械、化學(xué)或 電化學(xué)的作用，使工件表面粗糙度降低，以獲得光亮、平整表面的加工方法，是利用拋光工具和磨料顆粒或其他拋光介質(zhì)對工件表面進(jìn)行的修飾加工。

拋光不能提高工件的尺寸精度或幾何形狀精度，而是以 得到光滑表面或鏡面光澤為目的，有時(shí)也用以 消除光澤（消光）。

通常以拋光輪作為拋光工具。拋光輪一般用多層帆布、毛氈或皮革疊制而成，兩側(cè)用金屬圓板夾緊，其輪緣涂敷由微粉磨料和油脂等均勻混合而成的拋光劑。

拋光時(shí)，高速旋轉(zhuǎn)的拋光輪（圓周速度在20米/秒以上）壓向工件，使磨料對工件表面產(chǎn)生滾壓和微量切削，從而獲得光亮的加工表面，表面粗糙度一般可達(dá)Ra0.63～0.01微米；當(dāng)采用非油脂性的消光拋光劑時(shí)，可對光亮表面消光以改善外觀。

針對不同的拋光過程： 粗拋（ 基礎(chǔ)拋光過程），中拋（ 精加工過程）和精拋（ 上光過程） ，選用合適的拋光輪可以達(dá)到拋光效果，同時(shí)提高拋光效率。

工藝流程】

單色、漸變色：

拋光/噴砂/拉絲→除油→陽極氧化→中和→染色→封孔→烘干

雙色：

①拋光/噴砂/拉絲→除油→遮蔽→陽極氧化1→陽極氧化2 →封孔→烘干

②拋光/噴砂/拉絲→除油→陽極氧化1 →鐳雕→陽極氧化2 →封孔→烘干

通常所指的蝕刻也稱 光化學(xué)蝕刻，指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

通常所指的蝕刻也稱 光化學(xué)蝕刻，指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。