電子級四氟化碳是目前半導體行業(yè)主要的等離子體蝕刻氣體之一，主要用于硅、二氧化硅、氮化硅、金屬硅化物以及某些金屬的蝕刻。在低溫制冷、電子器件表面清洗和氣相絕緣等方面被廣泛應用。我院具備年產200噸CF4的生產能力，生產工藝及設備均處于國內ling 先地位，且以生產5N規(guī)格的產品為主。穩(wěn)定銷往韓國、臺灣等地區(qū)。

產品特性：

四氟化碳是目前半導體行業(yè)主要的等離子體蝕刻氣體之一，主要用于硅、二氧化硅、氮化硅、金屬硅化物以及某些金屬的蝕刻。

黎明化工研究設計院有限責任公司前身為黎明化工研究院，始建于1965年，主要從事化工新材料和化學推進劑及其原材料的研究開發(fā)。為航空航天事業(yè)、國防建設和經濟發(fā)展做出了貢獻。

黎明化工研究設計院有限責任公司是家重點高新技術企業(yè)和省創(chuàng)新型企業(yè)，現有職工830余人，其中業(yè)技術人員約占54% 。公司總占地約45萬平方米，建筑面積約17萬平方米.

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