通過上面的介紹,我們在施工硬化地坪時,非常有必要用地坪拋光液進行拋光,因為地坪拋光液不單單只是提高地坪的光澤度,還能提高地面抗?jié)B、防塵、抗污保潔的功能,讓地坪更有質感的同時,也能更好的對地面進行養(yǎng)護。可以說硬化地坪使用拋光液進行拋光并非畫蛇添足而是錦上添花,讓硬化地坪的效果更上一層樓!
一、地坪拋光液的概述:
生產(chǎn)的濃縮型滲透光亮劑,是采用了源自德國的特種高分子材料,極其耐用,可以抗磨損、防刮傷、防刻劃的功能,用途非常廣泛,可用于水泥制品、大理石、水磨石、耐磨骨料等為基礎表面拋光。它的特點就是滲入地坪,在干燥的過程中和混凝土粘結在一起,干燥后經(jīng)過物理拋光,能賦予地坪超亮的光澤的同時,還能提高表面的防水、防塵、抗污保潔和抗磨性能。
二、地坪拋光液的適用范圍:
金剛砂耐磨地坪、混凝土密封固化地坪、水磨石地坪、大理石等產(chǎn)品的表面拋光之用。
拋光液是由多種化工溶液配制而成的溶液,它在拋光工藝中有重要的地位,合理選擇拋光液,能使加工出來的工件表面光亮美觀,色澤鮮艷,光亮奪目,還可以防止工件的銹蝕,保持與提高工件表面的光澤,起到清潔工件與磨具的作用。去除油污,軟化工件表面以加速磨消,減少磨具對工件的沖擊,改善工件條件。它具有,無腐蝕,不易變質等性能。
拋光液的種類很多,應根據(jù)加工條件來選擇。在光整效率,工作的研磨質量,拋光的光潔度等方面。拋光液都顯示出其獨特的效果。
依據(jù)機械加工原理、半導體材料工程學、物力化學多相反應多相催化理論、表面工程學、半導體化學基礎理論等,對硅單晶片化學機械拋光(CMP)機理、動力學控制過程和影響因素研究標明,化學機械拋光是一個復雜的多相反應,它存在著兩個動力學過程:
(1)拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進行氧化還原的動力學過程。這是化學反應的主體。