通過上面的介紹,我們?cè)谑┕び不仄簳r(shí),非常有必要用地坪拋光液進(jìn)行拋光,因?yàn)榈仄簰伖庖翰粏螁沃皇翘岣叩仄旱墓鉂啥?,還能提高地面抗?jié)B、防塵、抗污保潔的功能,讓地坪更有質(zhì)感的同時(shí),也能更好的對(duì)地面進(jìn)行養(yǎng)護(hù)??梢哉f硬化地坪使用拋光液進(jìn)行拋光并非畫蛇添足而是錦上添花,讓硬化地坪的效果更上一層樓!
拋光液是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑,拋光液具有良好的去油污,防銹,清洗和增光性能,并能使金屬制品顯露出真實(shí)的金屬光澤。性能穩(wěn)定、,對(duì)環(huán)境無污染等優(yōu)點(diǎn)。
拋光液是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑,具有良好的去油污,防銹,清洗和增光性能,并能使金屬制品超過原有的光澤。產(chǎn)品性能穩(wěn)定、,對(duì)環(huán)境無污染等優(yōu)點(diǎn)。
依據(jù)機(jī)械加工原理、半導(dǎo)體材料工程學(xué)、物力化學(xué)多相反應(yīng)多相催化理論、表面工程學(xué)、半導(dǎo)體化學(xué)基礎(chǔ)理論等,對(duì)硅單晶片化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)機(jī)理、動(dòng)力學(xué)控制過程和影響因素研究標(biāo)明,化學(xué)機(jī)械拋光是一個(gè)復(fù)雜的多相反應(yīng),它存在著兩個(gè)動(dòng)力學(xué)過程:
(1)拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進(jìn)行氧化還原的動(dòng)力學(xué)過程。這是化學(xué)反應(yīng)的主體。
(2)拋光表面反應(yīng)物脫離硅單晶表面,即解吸過程使未反應(yīng)的硅單晶重新裸露出來的動(dòng)力學(xué)過程。它是控制拋光速率的另一個(gè)重要過程。
硅片的化學(xué)機(jī)械拋光過程是以化學(xué)反應(yīng)為主的機(jī)械拋光過程,要獲得質(zhì)量好的拋光片,必須使拋光過程中的化學(xué)腐蝕作用與機(jī)械磨削作用達(dá)到一種平衡。如果化學(xué)腐蝕作用大于機(jī)械拋光作用,則拋光片表面產(chǎn)生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機(jī)械磨削作用大于化學(xué)腐蝕作用,則表面產(chǎn)生高損傷層。