通過(guò)上面的介紹，我們?cè)谑┕び不仄簳r(shí)，非常有必要用地坪拋光液進(jìn)行拋光，因?yàn)榈仄簰伖庖翰粏螁沃皇翘岣叩仄旱墓鉂啥龋€能提高地面抗?jié)B、防塵、抗污保潔的功能，讓地坪更有質(zhì)感的同時(shí)，也能更好的對(duì)地面進(jìn)行養(yǎng)護(hù)。可以說(shuō)硬化地坪使用拋光液進(jìn)行拋光并非畫(huà)蛇添足而是錦上添花，讓硬化地坪的效果更上一層樓！

A.巴西蠟乳液

「巴西蠟乳液」即「巴西棕櫚蠟乳液」，是以巴西棕櫚蠟為主要原料，采用先進(jìn)乳化技術(shù)生產(chǎn)的高技術(shù)含量產(chǎn)品?！赴臀飨炄橐骸寡匾u了棕櫚蠟高光的特性，是一種粒徑較小的水性及溶劑型助劑，常用于制作各種上光劑，具有手感滑爽、光澤度好、抗磨等性能。巴西蠟乳液是支撐地坪拋光液效用的主要材料，在產(chǎn)品設(shè)計(jì)中起到提亮增亮的作用。

化學(xué)機(jī)械拋光

這兩個(gè)概念主要出半導(dǎo)體加工過(guò)程中，初的半導(dǎo)體基片（襯底片）拋光沿用機(jī)械拋光、例如氧化鎂、氧化鋯拋光等，但是得到的晶片表面損傷是極其嚴(yán)重的。直到60年代末，一種新的拋光技術(shù)——化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)（CMP Chemical Mechanical Polishing ）取代了舊的方法。CMP技術(shù)綜合了化學(xué)和機(jī)械拋光的優(yōu)勢(shì)：?jiǎn)渭兊幕瘜W(xué)拋光，拋光速率較快，表面光潔度高，損傷低，平整性好，但表面平整度和平行度差，拋光后表面一致性差；單純的機(jī)械拋光表面一致性好，表面平整度高，但表面光潔度差，損傷層深?；瘜W(xué)機(jī)械拋光可以獲得較為平整的表面，又可以得到較高的拋光速率，得到的平整度比其他方法高兩個(gè)數(shù)量級(jí)，是能夠?qū)崿F(xiàn)全局平面化的有效方法。

（2）拋光表面反應(yīng)物脫離硅單晶表面，即解吸過(guò)程使未反應(yīng)的硅單晶重新裸露出來(lái)的動(dòng)力學(xué)過(guò)程。它是控制拋光速率的另一個(gè)重要過(guò)程。

硅片的化學(xué)機(jī)械拋光過(guò)程是以化學(xué)反應(yīng)為主的機(jī)械拋光過(guò)程，要獲得質(zhì)量好的拋光片，必須使拋光過(guò)程中的化學(xué)腐蝕作用與機(jī)械磨削作用達(dá)到一種平衡。如果化學(xué)腐蝕作用大于機(jī)械拋光作用，則拋光片表面產(chǎn)生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機(jī)械磨削作用大于化學(xué)腐蝕作用，則表面產(chǎn)生高損傷層。