一、地坪拋光液的概述：

生產(chǎn)的濃縮型滲透光亮劑，是采用了源自德國的特種高分子材料，極其耐用，可以抗磨損、防刮傷、防刻劃的功能，用途非常廣泛，可用于水泥制品、大理石、水磨石、耐磨骨料等為基礎(chǔ)表面拋光。它的特點(diǎn)就是滲入地坪，在干燥的過程中和混凝土粘結(jié)在一起，干燥后經(jīng)過物理拋光，能賦予地坪超亮的光澤的同時，還能提高表面的防水、防塵、抗污保潔和抗磨性能。

二、地坪拋光液的適用范圍：

金剛砂耐磨地坪、混凝土密封固化地坪、水磨石地坪、大理石等產(chǎn)品的表面拋光之用。

地坪拋光液的施工方法：

利用拖把、刮刀、軟毛刷或滾筒等涂刷均勻，待地面將光亮劑吸收（約20分鐘）后，再用軟性物擦拭表面或者用拋光機(jī)拋光（采用白色羊毛纖維墊），直至光亮度表現(xiàn)出來為止。拋光完成后，即可上人，氣溫較低時，間隔時間需要適度延長。

注意事項(xiàng)：

內(nèi)含乳化劑和少量溶劑，未經(jīng)稀釋的本產(chǎn)品可能刺激眼睛。使用時應(yīng)避免濺入眼睛中或皮膚上。若不慎濺入眼睛里或皮膚上，需用大量的清水沖洗。若仍有刺激性，請看醫(yī)生。本品不能吞服，若不慎吞服，及時就醫(yī)。不用時保持容器密封。謹(jǐn)防兒童接觸。

依據(jù)機(jī)械加工原理、半導(dǎo)體材料工程學(xué)、物力化學(xué)多相反應(yīng)多相催化理論、表面工程學(xué)、半導(dǎo)體化學(xué)基礎(chǔ)理論等，對硅單晶片化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）機(jī)理、動力學(xué)控制過程和影響因素研究標(biāo)明，化學(xué)機(jī)械拋光是一個復(fù)雜的多相反應(yīng)，它存在著兩個動力學(xué)過程：

（1）拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進(jìn)行氧化還原的動力學(xué)過程。這是化學(xué)反應(yīng)的主體。

拋光液的主要產(chǎn)品可以按主要成分的不同分為以下幾大類：金剛石拋光液（多晶金剛石拋光液、單晶金剛石拋光液和納米金剛石拋光液）、氧化硅拋光液（即CMP拋光液）、氧化鈰拋光液、氧化鋁拋光液和碳化硅拋光液等幾類。

多晶金剛石拋光液以多晶金剛石微粉為主要成分，配合高分散性配方，可以在保持高切削率的同時不易對研磨材質(zhì)產(chǎn)生劃傷。

主要應(yīng)用于藍(lán)寶石襯底的研磨、LED芯片的背部減薄、光學(xué)晶體以及硬盤磁頭等的研磨和拋光。

氧化硅拋光液（CMP拋光液）是以高純硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。

廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光，如：硅晶圓片、鍺片、化合物半導(dǎo)體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學(xué)器件、藍(lán)寶石片等的拋光加工。