微粒研磨由以下幾道工序組成：

①粗磨：要求磨具吃刀量深，磨削效率高，磨削的紋路粗，磨出的表面較粗糙，主要清除產(chǎn)品在前道工序中留有的鋸片痕跡并將產(chǎn)品的平整度，造型面磨削到位；

②半細(xì)磨：將粗磨痕跡清除，形成新的較細(xì)的紋路，產(chǎn)品加工面平整、順滑；

③細(xì)磨：細(xì)磨后的產(chǎn)品花紋、顆粒、顏色已清楚地顯示出來(lái)，表面細(xì)膩、光滑，開始有微弱的光澤度；

④精磨：加工后的產(chǎn)品，無(wú)肉眼察覺(jué)的痕跡。表面越來(lái)越光滑，光澤度約40~50度左右； ⑤拋光：表面明亮如鏡，具有一定的鏡面光澤度（95度以上）。

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價(jià)格：面議

拋光粉通常由氧化鈰、氧化鋁、氧化硅、氧化鐵、氧化鋯、氧化鉻等組份組成。不同的材料的硬度不同，在水中的化學(xué)性質(zhì)也不同，因此使用場(chǎng)合各不相同。通常，氧化鈰拋光粉用于玻璃和含硅材料的拋光，氧化鋁拋光粉用于不銹鋼的拋光，氧化鐵也可用于玻璃，但速度較慢，常用于軟性材料的拋光。石材的拋光常使用氧化錫，瓷磚的拋光常使用氧化鉻。

基本要求

（1）微粉粒度均勻一致，在允許的范圍之內(nèi)；顆粒的大小及均勻度決定了拋光速度和精度，過(guò)篩的篩網(wǎng)目數(shù) 能掌握粉體相對(duì)的粒度的值，平均粒度決定了拋光粉顆粒大小的整體水平。

（2）有較高的純度，不含機(jī)械雜質(zhì)。

（3）有良好的分散性和吸附性，以保證加工過(guò)程的均勻和，可適量添加LBD-1分散劑提高懸浮率；好的 拋光粉要有較好的懸浮性，粉體的形狀和粒度大小對(duì)懸浮性能具有一定的影響，納米粒徑的拋光粉的懸 浮性相對(duì)的要好一些，所以精拋一般選擇納米拋光粉。

（4）粉末顆粒有一定的晶格形態(tài)，破碎時(shí)形成銳利的尖角，以提高拋光效率；粉體的晶型是團(tuán)聚在一起的單 晶顆粒，決定了粉體的切削性、耐磨性及流動(dòng)性。粉體團(tuán)聚在一起的單晶顆粒在拋光過(guò)程中分離（破碎），使其切削性、耐磨性逐漸下降，顆粒為球型的拋光粉具有良好的切削性、耐磨性和流動(dòng)性。

（5）有合適的硬度和密度，和水有很好的浸潤(rùn)性和懸浮性，因?yàn)閽伖夥坌枰c水混合，硬度相對(duì)大的粉體具 有較快的切削效果，同時(shí)添加一些助磨劑等等也同樣能提高切削效果；不同的應(yīng)用領(lǐng)域會(huì)有很大出入，包括自身加工工藝。

氧化鈰微粉

采用產(chǎn)于內(nèi)蒙古自治區(qū)的稀土精礦生產(chǎn)拋光粉為原料，經(jīng)過(guò)粉碎、分級(jí)和凈化處理這些嚴(yán)格的工藝處理而得到的精細(xì)拋光粉，所有的產(chǎn)品都符合超純技術(shù)指標(biāo)。

廣泛用于鏡頭、電視顯像管、眼鏡片、人工晶體、寶石、光學(xué)元件、光纖、藝術(shù)玻璃、電子玻璃、平板玻璃等的拋光 [

顆粒度

粒度越大的氧化鈰，磨削力越大，越適合于較硬的材料，ZF玻璃應(yīng)該用偏細(xì)的拋光粉。要注意的是，所有的氧化鈰的顆粒度都有一個(gè)分布問(wèn)題，平均粒徑或中位徑D50的大小只決定了拋光速度的快慢，而粒徑Dmax決定了拋光精度的高低。因此，要得到高精度要求，必須控制拋光粉的顆粒。

一般而言，產(chǎn)品精磨后，產(chǎn)品的光澤度在40~50左右，而有些石材精磨后達(dá)不到上面的光澤度，如山西黑、黑金砂、集寧黑等，此類產(chǎn)品精磨后的光澤度只有20~30度之間，用前面的微粒研磨原理解釋不夠一面，這種產(chǎn)品在拋光“干與濕”，溫度的升高，降溫中，強(qiáng)化拋光過(guò)程，發(fā)生物理化學(xué)反應(yīng)，產(chǎn)品在經(jīng)過(guò)“干拋光、濕拋光”中，光澤度逐步提高，光澤度達(dá)95度以上

大理石拋光粉

1、使用轉(zhuǎn)速154轉(zhuǎn)/分鐘，機(jī)重在45KG以上擦地機(jī)即可。

2、不會(huì)產(chǎn)生用鋼絲棉而造成的石面劃傷。

3、不會(huì)使石面變色或留下黃銹。

4、石面光亮如水，極富層次感。

5、低成本、省時(shí)、省人工。

6、具防止污污質(zhì)滲入石材內(nèi)層、增強(qiáng)抗磨性、防滑等功效。