硅片的化學(xué)機(jī)械拋光過(guò)程是以化學(xué)反應(yīng)為主的機(jī)械拋光過(guò)程，要獲得質(zhì)量好的拋光片，必須使拋光過(guò)程中的化學(xué)腐蝕作用與機(jī)械磨削作用達(dá)到一種平衡。如果化學(xué)腐蝕作用大于機(jī)械拋光作用，則拋光片表面產(chǎn)生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機(jī)械磨削作用大于化學(xué)腐蝕作用，則表面產(chǎn)生高損傷層。

氧化硅拋光液 氧化硅拋光液（CMP拋光液）是以高純硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。 廣泛用于多種材料納米級(jí)的高平坦化拋光，如：硅晶圓片、鍺片、化合物半導(dǎo)體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學(xué)器件、藍(lán)寶石片等的拋光加工。

應(yīng)用領(lǐng)域 1、 光通訊領(lǐng)域，配合公司專門為光纖連接器開(kāi)發(fā)的拋光產(chǎn)品，能達(dá)到超精細(xì)拋光效果，拋光后連接器端面沒(méi)有劃傷和缺陷，3D指標(biāo)和反射衰減指標(biāo)達(dá)到國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)。 2、 硬盤(pán)基片的拋光，SiO2磨料呈球形，具有粒度均勻、分散性好、平坦化效率高等優(yōu)點(diǎn)。 3、 硅晶圓、藍(lán)寶石等半導(dǎo)體及襯底材料的粗拋和精拋，具有拋光速率高，拋光后易清洗，表面粗糙度低，能夠得到總厚偏差（TTV）極小的質(zhì)量表面。 4、其他領(lǐng)域的應(yīng)用，如不銹鋼、光學(xué)玻璃等領(lǐng)域，拋光后能達(dá)到良好的拋光效果

封釉，指用柔軟的羊毛或海綿通過(guò)震拋機(jī)的高速震動(dòng)和摩擦，利用釉特有的滲透性和黏附性把釉分子強(qiáng)力滲透到汽車表面、油漆的縫隙中去。

封釉后的車身漆面能夠達(dá)到甚至超過(guò)原車漆效果，使舊車更新、新車更亮，并同時(shí)具備抗高溫、密封、抗氧化、增光、耐水洗、抗腐蝕等特點(diǎn)，還為以后的汽車美容、烤漆、翻新奠定了基礎(chǔ)。封釉是打蠟的替代品，一般封釉之后半年之內(nèi)可不用打蠟。

一些制樣技術(shù)對(duì)金剛石拋光劑的要求更高, 并且對(duì)一種特殊的制樣方法確切知道需要何種金剛石拋光劑是非常必要的。 對(duì)試樣的要求高意味對(duì)研磨劑要進(jìn)行臨界選擇(多晶的金剛石, P) 但是只要一個(gè)可接受的試樣，使用價(jià)格便宜的金剛石產(chǎn)品(單晶金剛石, M)就足夠了。制樣時(shí)選擇金剛石產(chǎn)品，制樣的質(zhì)量、時(shí)間和成本都必須綜合起來(lái)考慮。

金剛石晶粒大小的分布與各晶粒大小之間的差距應(yīng)盡可能的小，這是非常重要的。 因?yàn)槿绻趻伖鈩┲写嬖趩蝹€(gè)的金剛石大晶粒，那么試樣表面由它們形成的劃痕將無(wú)法在后道工序中消除。 反之，晶粒太小又不利于試樣的磨削。因此，控制粒度分布在金剛石產(chǎn)品的生產(chǎn)中是非常重要的。