大理石防護(hù)晶面拋光液 大理石加光加硬劑是針對(duì)大理石表面需追求超高亮度而設(shè)計(jì)，具有的滲透性和擴(kuò)散力，能滲入到大理石基料的分子間隙。加光劑內(nèi)含溶劑性硬蠟，以及對(duì)大理石沒(méi)有腐蝕的微酸性，擁有去污、加硬、加光、防滑四大功能，經(jīng)打磨產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，可迅速提升大理石地面的光澤度，令石材保持光潔如新的鏡面效果。

拋光粉通常由氧化鈰、氧化鋁、氧化硅、氧化鐵、氧化鋯、氧化鉻等組份組成。不同的材料的硬度不同，在水中的化學(xué)性質(zhì)也不同，因此使用場(chǎng)合各不相同。通常，氧化鈰拋光粉用于玻璃和含硅材料的拋光，氧化鋁拋光粉用于不銹鋼的拋光，氧化鐵也可用于玻璃，但速度較慢，常用于軟性材料的拋光。石材的拋光常使用氧化錫，瓷磚的拋光常使用氧化鉻。

氧化硅拋光液（CMP拋光液）是以高純硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。

廣泛用于多種材料納米級(jí)的高平坦化拋光，如：硅晶圓片、鍺片、化合物半導(dǎo)體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學(xué)器件、藍(lán)寶石片等的拋光加工。

氧化鈰拋光液

氧化鈰拋光液是以微米或亞微米級(jí)CeO2為磨料的氧化鈰研磨液，該研磨液具有分散性好、粒度細(xì)、粒度分布均勻、硬度適中等特點(diǎn)。

適用于高精密光學(xué)儀器，光學(xué)鏡頭，微晶玻璃基板，晶體表面、集成電路光掩模等方面的精密拋光。

大理石防護(hù)晶面拋光液 大理石加光加硬劑是針對(duì)大理石表面需追求超高亮度而設(shè)計(jì)，具有的滲透性和擴(kuò)散力，能滲入到大理石基料的分子間隙。加光劑內(nèi)含溶劑性硬蠟，以及對(duì)大理石沒(méi)有腐蝕的微酸性，擁有去污、加硬、加光、防滑四大功能，經(jīng)打磨產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，可迅速提升大理石地面的光澤度，令石材保持光潔如新的鏡面效果。