rc-666環(huán)保鍍銅
一、特點(diǎn)
1、適合于鋅合金、鋁合金、釹鐵硼及鋼基材的打底鍍層。
2、易操作,滾鍍及掛鍍皆宜。
二、溶液組成及操作條件
項(xiàng) 目
操作條件
rc-666a環(huán)保鍍銅開(kāi)缸a劑
500毫升/升
溫度
45-55℃
ph
鐵基材11-13;鋅合金10-12
電流密度
0.5-3安培/平方分米
陽(yáng)極
電解銅+不銹鋼陽(yáng)極
攪拌
滾動(dòng)或機(jī)械搖擺
過(guò)濾
連續(xù)過(guò)濾
三、生產(chǎn)維護(hù)
1、生產(chǎn)過(guò)程中銅離子控制在8-12克/升,銅離子含量可采用化學(xué)分析來(lái)測(cè)定,并通過(guò) 調(diào)節(jié)石墨陽(yáng)極與電解銅的陽(yáng)極面積比例來(lái)進(jìn)行管控。
2、rc-666a環(huán)保鍍銅開(kāi)缸劑只在新開(kāi)槽時(shí)使用,日常生產(chǎn)只需添加rc-666b環(huán)保鍍銅補(bǔ)充劑。
3、rc-666b環(huán)保鍍銅補(bǔ)充劑可通過(guò)分析補(bǔ)充,。
4、ph值控制:調(diào)高ph用10%氫氧化鉀溶液,調(diào)低ph用酒石酸。
5、銅離子不足時(shí),鍍層高區(qū)粗糙,沉積速度下降,可通過(guò)提高電解銅陽(yáng)極面積比例來(lái)提高銅離子濃度。
6、銅離子過(guò)量時(shí),鍍層低區(qū)粗糙,可適量補(bǔ)充rc-666b環(huán)保鍍銅補(bǔ)充劑。
7、rc-666b不足時(shí),鍍層低區(qū)粗糙,可適量補(bǔ)充rc-666b環(huán)保鍍銅補(bǔ)充劑。
8、rc-666b過(guò)量時(shí),沉積速度下降,可適量提高銅離子濃度。
9、若因前序工序或原材料帶入的異金屬或有機(jī)物雜質(zhì),造成鍍層發(fā)暗發(fā)灰,可以用活性炭處理,。
四、儲(chǔ)存
存放于陰涼干燥處,不得與強(qiáng)酸性物質(zhì)混放;高溫下或遇強(qiáng)酸性物質(zhì)會(huì)發(fā)生反應(yīng),生成有毒害物質(zhì)。
五、廢水處理
1、廢水排放按常規(guī)破絡(luò)合劑方法進(jìn)行處理,詳細(xì)方案請(qǐng)咨詢本公司技術(shù)部。
2、未經(jīng)處理廢水不得與強(qiáng)酸性物質(zhì)混排,否則會(huì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成有毒害物質(zhì)。
3、泄露應(yīng)急處理:發(fā)生廢水泄露時(shí),用適量氯酸鈣或硫酸亞鐵充分反應(yīng)后排放至廢水池。
注:rc-666a、rc-666b存放期間產(chǎn)生分層、沉淀或變色,屬正?,F(xiàn)象,搖勻后使用,不影響效果。