拋光的過程有2個，即“干拋光與濕拋光”，拋光磨石在“干與濕”之間當石材產品發(fā)生物理化學作用，干拋光是在石材表面溫度升高使水分蒸發(fā)，導致拋光磨石濃度增大，從而達到強化效果，產品光澤度開始達到了理想要求，光澤度達85度以上或更高。

拋光磨石在被加工產品上拋光，待拋光產品燙手后，將板面加水量水，以起到降溫作用，不允許連續(xù)加水或大量加水，否則，水的潤滑作用將會使拋光達不到理想效果，也不能全部使用干拋光，過高的溫度會燒壞板面，而且會使板面出現(xiàn)裂紋。

一般而言，產品精磨后，產品的光澤度在40~50左右，而有些石材精磨后達不到上面的光澤度，如山西黑、黑金砂、集寧黑等，此類產品精磨后的光澤度只有20~30度之間，用前面的微粒研磨原理解釋不夠一面，這種產品在拋光“干與濕”，溫度的升高，降溫中，強化拋光過程，發(fā)生物理化學反應，產品在經過“干拋光、濕拋光”中，光澤度逐步提高，光澤度達95度以上。

拋光液是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑，具有良好的去油污，防銹，清洗和增光性能，并能使金屬制品超過原有的光澤。產品性能穩(wěn)定、，對環(huán)境無污染等優(yōu)點。

氧化硅拋光液

氧化硅拋光液（CMP拋光液）是以高純硅粉為原料，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品。

廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光，如：硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工。

拋光粉通常由氧化鈰(VK-CE01)、氧化鋁(VK-L30F)、氧化硅(VK-SP50F)、氧化鐵、氧化鋯(VK-R30F)、氧化鉻等組份組成，不同的材料的硬度不同，在水中的化學性質也不同，因此使用場合各不相同。氧化鋁和氧化鉻的莫氏硬度為9，氧化鈰和氧化鋯為7，氧化鐵更低。氧化鈰與硅酸鹽玻璃的化學活性較高，硬度也相當，因此廣泛用于玻璃的拋光。

為了增加氧化鈰的拋光速度，通常在氧化鈰拋光粉加入氟以增加磨削率。鈰含量較低的混合稀土拋光粉通常摻有3－8的氟；純氧化鈰拋光粉通常不摻氟。

對ZF或F系列的玻璃來說，因為本身硬度較小，而且材料本身的氟含量較高，因此選用不含氟的拋光粉為好。