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蘇州偉志水處理設備有限公司

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河北純水設備廠家,半導體芯片清洗超純水設備

2019-11-16 10:27:09  494次瀏覽 次瀏覽
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河北純水設備廠家|半導體芯片清洗超純水設備郭懷影【

半導體芯片清洗超純水設備出水水質(zhì)完全符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標準、美國半導體工業(yè)用純水指標、日本集成電路水質(zhì)標準、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標準。

半導體芯片清洗超純水設備制備工藝:

1、預處理系統(tǒng)反滲透系統(tǒng)中間水箱精混合床純水箱純水泵紫外線器拋光混床精密過濾器用水對象(≥15MΩ.CM(傳統(tǒng)工藝)

2、預處理反滲透中間水箱水泵→EDI裝置純水箱純水泵紫外線器拋光混床→0.20.5μm精密過濾器用水對象(≥16MΩ.CM(Z新工藝)

3、預處理一級反滲透加藥機(PH調(diào)節(jié))中間水箱第二級反滲透(正電荷反滲膜)純水箱純水泵→EDI裝置紫外線器→0.20.5μm精密過濾器用水對象(≥17MΩ.CM(Z新工藝)

半導體清洗用超純水設備工作原理

EDI裝置將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。EDI工作原理如下圖所示。EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開,形成濃水室。又在單元組兩端設置陰/陽電極。在直流電的推動下,通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進入到濃水室而在淡水室中去除。而通過濃水室的水將離子帶出系統(tǒng),成為濃水. EDI設備一般以反滲透(RO)純水作為EDI給水。RO純水電導率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI純水電阻率可以高達18 MΩ.cm(25℃),但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設置,EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。

以上是半導體清洗用超純水設備的相關信息,想要更加了解設備的內(nèi)容,歡迎用戶前來咨詢。蘇州偉志是一家專業(yè)的水處理設備生產(chǎn)廠家,我們擁有先進的生產(chǎn)技術,引進先進的科技,設備的質(zhì)量和出水水質(zhì)

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