我國電子工業(yè)部電子級水質技術標準(18MQ.cm、15MQ.cm、10MQ. cm、2MQ. cm、0. 5MQ. cm五級標準)、我國電子工業(yè)部高純水水質試行標準、美國半導體工業(yè)用純水指標、日本集成電路水質、標準、國內外大規(guī)模集成電路水質標準。
水質要求:新型光電材料生產,加工,清洗;LCD液晶顯示器,PDP等離子顯示器,高品質燈管顯像管,微電子行業(yè),FPC/PCB線路板,線路板,大規(guī)模,超大規(guī)模集成電路需要大量高純水,超純水來清洗半成品,成品。隨著集成電路集成度的提高,對水質的要求也越來越高,對超純水處理工藝和產品的簡單性、自動化程度、生產的連續(xù)性和可持續(xù)性等都提出了更高的要求。
超純水制備工藝:
1、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱-→純水泵-→紫外線器->拋光混床-→精密過濾器-→用水對象(≥ 18MQ .CM) (傳統(tǒng)工藝)
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MQ.CM) (工藝)
3、預處理→-級反滲透→加藥機(PH調節(jié))-→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲透)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線器→0.2或0.5μ m精密過濾器→用水對象(≥17M0. CM) (工藝)
4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵-.紫外線器→0.2或0.5μm精密過濾器-.用水對象(三15MQ .M) (工藝)
5、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→混合床→紫外線器→精密過濾器→用水對象(≥15MQ.CM) (傳統(tǒng)工藝)
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