1.工藝特點：

2 采用易控制的可溶性混合催化劑，操作簡單；

2 有較高的陰極電流效率，能在高電流密度下操作；

2 工件可得到好的活化，有較廣的光亮范圍；

2 對雜質(zhì)容忍度好；

2 優(yōu)越的覆蓋和分散能力。

2.鍍液組成及操作條件：

鍍液組成及工藝條件 標(biāo)準(zhǔn)開缸 適用范圍

鉻酐 &nbs 克/升

純硫酸（d=1.84） 1.2克/升（0.65毫升） 0 升）

鉻酐/硫酸（CrO3/H2SO4） 200:1 125-250:1

842開缸劑 10毫升/升 8－15毫升/升

鍍液比重（Bé） 21°波美 19－23°波美

工作溫度 40℃ 35－52℃

陰極電流密度 15安培/平方分米 10－20安培/平方分米

3.設(shè)備要求：

2 鍍槽： 硬聚 板或鋼槽內(nèi)襯軟聚 均可；

2 整流器： 要求有足夠的容量與鍍槽配套，波紋系數(shù)5%,電壓不小于15V；

2 陽極： 使用的陽極為鉛錫合金（錫：4－7%）或鉛銻合金，工作時陰陽 極面積比例為陰極面積：陽極面積＝1：2－3；

2 加熱器： 選用鈦、鉛或聚 材料；

2 冷卻管： 選用鈦或鉛材料；

4.鍍液配制方法：

2 在徹底清洗過的干凈鍍槽內(nèi)加入三分之二的去離子水，并加熱到50℃；

2 在攪拌加入所需的鉻酸并溶解，加入所需添加劑RC-842；

2 加水至規(guī)定體積，并調(diào)至工作溫度，攪拌讓溶液均勻；

2 分析硫酸根的含量，用化學(xué)純的硫酸補加不足的硫酸含量至規(guī)定值；

2 放陽極入鍍槽，并且加入陰極；在6伏電壓下電解幾個小時后，就可以開始電鍍。詳細(xì)請咨詢，可研發(fā)達(dá)到要求