企業(yè)在申報專利時,都有可能涉及到專利申請技術交底書其主要作用就是方便專利代理人撰寫完善專利,讓專利更好更完善的獲得保護,主要內(nèi)容是跟現(xiàn)有技術相比,有什么創(chuàng)新,具體可以跟隨小編的腳步來了解.

背景技術:對相關的現(xiàn)有技術進行評述，并指出現(xiàn)有技術中存在的問題和缺點，在可能的情況下，說明存在這種問題和缺點的原因以及解決這些問題時曾經(jīng)遇到的困難。簡單來說,提供一下資料:

1 現(xiàn)有技術狀況及其存在缺陷

這部分為背景技術介紹，要求介紹與本發(fā)明相關的已有技術的發(fā)展情況，及其存在的缺點。

2申請專利技術交底書涉及的技術方案

清楚、完整地敘述本發(fā)明創(chuàng)造技術內(nèi)容，并指出本發(fā)明創(chuàng)造與現(xiàn)有技術不同的技術特征。結合附圖（標號）詳細說明本發(fā)明的結構，包括由幾個部分組成，各組成部分的連接關系；同時介紹本發(fā)明的工作原理。

▲當該發(fā)明創(chuàng)造為結構型產(chǎn)品時，請?zhí)峁┰摦a(chǎn)品的結構圖，并寫明結構組成及各組成之間的連接關系、位置關系和結構關系，工作原理及使用方法。

▲當該發(fā)明創(chuàng)造為電子產(chǎn)品時，請?zhí)峁┓娇驁D和電路原理圖，并敘述其工作原理以及電路的連接關系。

▲當該發(fā)明創(chuàng)造為化合物時，請寫出其組分、各組分的含量范圍及在組合物中所起的作用，如中藥的發(fā)明專利需提供該重要的各個組分以及各組分的重量分數(shù)。

▲當該發(fā)明創(chuàng)造為工藝方法時，請寫出整個工藝過程及各工序的工藝條件，必要時可附工藝流程圖說明。

3 與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明的優(yōu)點

針對上述現(xiàn)有技術的缺點寫出本發(fā)明的優(yōu)點。

4 附圖及說明

要求提供結構示意圖，應當對各部件進行標號，并說明各標號的中文名稱。

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