電子級(jí)四氟化碳是目前半導(dǎo)體行業(yè)主要的等離子體蝕刻氣體之一，主要用于硅、二氧化硅、氮化硅、金屬硅化物以及某些金屬的蝕刻。在低溫制冷、電子器件表面清洗和氣相絕緣等方面被廣泛應(yīng)用。我院具備年產(chǎn)200噸CF4的生產(chǎn)能力，生產(chǎn)工藝及設(shè)備均處于國(guó)內(nèi)領(lǐng) 先地位，且以生產(chǎn)5N規(guī)格的產(chǎn)品為主。穩(wěn)定銷往韓國(guó)、臺(tái)灣等地區(qū)。

產(chǎn)品特性：

四氟化碳是目前半導(dǎo)體行業(yè)主要的等離子體蝕刻氣體之一，主要用于硅、二氧化硅、氮化硅、金屬硅化物以及某些金屬的蝕刻。

黎明院是國(guó)內(nèi)研究開(kāi)發(fā)六氟化硫生產(chǎn)工藝的單位，致力于含氟電子特氣的研究，取得數(shù)十項(xiàng)技術(shù)研究及革新成果，曾獲全國(guó)科學(xué)大會(huì)獎(jiǎng)，并主編工業(yè)級(jí)、電子級(jí)六氟化硫國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。

黎明院在制氟及氟化物生產(chǎn)行業(yè)的綜合技術(shù)實(shí)力達(dá)到了國(guó)內(nèi)領(lǐng) 先水平，產(chǎn)品質(zhì)量達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平。在電解制氟、合成、提純、“三廢”處理等工藝技術(shù)領(lǐng)域具有四十多年的科研和生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)，擁有多項(xiàng)核心技術(shù)，累計(jì)申報(bào)國(guó)家專利17項(xiàng)。工業(yè)六氟化硫產(chǎn)品已經(jīng)連續(xù)多年獲得“河南省名 牌產(chǎn)品”稱號(hào)。

近年來(lái)，黎明院電子級(jí)六氟化硫、三氟化氮、四氟化碳、六氟化鎢等含氟特種氣體的研發(fā)也取得了豐碩成果，其中自主研發(fā)的處于國(guó)際先進(jìn)水平的新型電解技術(shù)可實(shí)現(xiàn)直接一步反應(yīng)生產(chǎn)三氟化氮，其產(chǎn)品指標(biāo)達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平。超高純六氟化硫、四氟化碳的研發(fā)列入國(guó)家重大專項(xiàng)課題“02專項(xiàng)”， 重點(diǎn)開(kāi)發(fā)滿足半導(dǎo)體集成電路領(lǐng)域使用的更高純度含氟電子氣體。

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