半水基型清洗劑

由細(xì)顆粒狀弱堿性吸附各種助劑合成的藥劑的新型清洗劑產(chǎn)品，采用天然介面活性磨粒為原料，配合多種活性劑及劑、拋光劑、進(jìn)口參透劑以及獨(dú)特光亮因子等環(huán)保技術(shù)高科技配制而成的，是一種多功能、的綜合性環(huán)保清洗護(hù)理產(chǎn)品。是現(xiàn)代新型的去污產(chǎn)品，去污效果獨(dú)特，用途廣， 對(duì)人體皮膚沒(méi)有副作用。由活性磨粒為助與磨粒里含有獨(dú)特的清潔藥劑配合清洗時(shí)帶有輕微軟摩擦更能快速?gòu)氐浊宄黝悋?yán)重的頑固污垢污染?；夜浮⒅赜臀酃?、水泥垢、填縫劑垢、金屬劃痕、 銹垢、膠粘質(zhì)、茶漬、飲品漬、膠錘印、皮鞋劃痕、頑固蠟漬、 鋁痕、木痕、方格痕、水印、鞋印、墨水印等污垢，環(huán)保，不損磚面，不傷手。

水基型

水是重要的清洗劑，有著其它任何清洗劑無(wú)法替代的作用和地位。普通的水很容易從自然界中得到，水有很強(qiáng)的溶解力和分散力。但是水的表面張力大，在使用中需要添加表面活性劑，以減小表面張力，增加表面濕潤(rùn)性。在一般工業(yè)清洗中，酸，堿和水的配合比較常見(jiàn)，有些金屬用水洗要加入防銹劑；在精密和超精密工業(yè)清洗中。大部分要求將水制成純凈水。通常以電阻率來(lái)衡量水純度。半導(dǎo)體工業(yè)要求在18MΩ/cm以上。而TN型液晶生產(chǎn)10MΩ/cm就可以了，還有一些行業(yè)對(duì)含量要求很嚴(yán)。

半水基型

半水基型清洗劑也叫準(zhǔn)水基型清洗劑，是由高沸點(diǎn)溶劑及活性劑等組成如醇類，有機(jī)烴類等。通常含有5%一20%的水分，一般不易燃燒，但加溫清洗時(shí)水含量控制不當(dāng)，可能產(chǎn)生燃燒現(xiàn)象。半水基型清洗與溶劑洗有一些不同，它的清洗原理是剝離去除，而不是溶解。為了防止已經(jīng)剝落的油污再附到被清洗物上，清洗液要連續(xù)地循環(huán)，并增加油水分離器。半水洗通常清洗效果很好，但運(yùn)行成本較高，廢液不能再生回收，重復(fù)使用，含COD（化學(xué)耗氧量）較高，需要進(jìn)行廢水處理。

一個(gè)好的精密工業(yè)清洗劑必須具備以下條件：

①化學(xué)性能穩(wěn)定，不易與被清洗物發(fā)生反應(yīng)；

②表面張力和粘度小，滲透力強(qiáng)；

③沸點(diǎn)低，可以自行干燥；

④沒(méi)有閃點(diǎn)，不易燃；

⑤KB值不應(yīng)太高，避免與被清洗物相溶；

⑥低毒性，使用；

⑦非ODS和低GWP值（全球變 暖潛能值），環(huán)保。