NF3氣體在高能化學激光、電子工業(yè)(IC)以及太陽能光電產(chǎn)業(yè)等方面具有非常廣泛的應用。目前，黎明院擁有一條年產(chǎn)500噸的NF3生產(chǎn)線，其生產(chǎn)工藝、設備均處于國內(nèi)領 先地位。

主要用途：

NF3的三個主要用途，一是用作高能化學激光的氟源，二是作為電子工業(yè)(IC)中的蝕刻劑、清洗劑，三是應用于太陽能光電產(chǎn)業(yè)。

NF3其它用途：生產(chǎn)全氟銨鹽，用作填充氣體以增加燈泡的壽命和亮度，在采礦和火箭技術中用作氧化劑等。

物化性質(zhì)：

NF3在室溫和大氣壓力下是無色、穩(wěn)定和有毒的氣體。相對分子質(zhì)量為71.002，沸點為-129.06℃。

NF3在室溫下較穩(wěn)定，但在800~1200℃下發(fā)生猛烈分解；NF3是一種有潛力的氧化劑，特別是在約200℃時，其反應性與氧相當；NF3在與其它元素反應時主要用作氟化劑；NF3在常溫下不與水、稀酸和稀堿溶液反應，但在100℃下與堿性溶液接觸時會緩慢水解生成亞硝酸鹽及氟化物，在電火花作用下，NF3可與水猛烈反應；NF3與H2或氫化物可快速反應并放出大量的熱，該反應是NF3用于高能化學激光器的基礎；NF3可與有機物作用，但通常需升高溫度以引發(fā)反應，因而常常發(fā)生爆炸；在低于70℃時NF3氣體對普通金屬不腐蝕，因此可用鋼、不銹鋼、鎳、銅和鋁等材料制作相關設備。

數(shù)據(jù)：

NF3是一種有毒、不可燃的壓縮氣體；

無氣味，但其中所含的雜質(zhì)使它聞起來有發(fā)霉的氣味；

暴露極限： OSHA: PEL=10ppm. ACGIH: TWA/TLV=10ppm. NIOSH: 1000ppm.當進入濃度超過暴露極限的泄方區(qū)時需配備自給式呼吸器(SCBA)；

氧化劑，會引起或促進金屬和非金屬物質(zhì)的燃燒，特別是溫度超過200℃時；燃燒產(chǎn)物有毒；

使用NF3的任何系統(tǒng)都不應有油、油脂和其它有機物；

存儲于鋼瓶中，壓力小于1500psig，盛裝NF3的氣瓶不允許在高于52℃的環(huán)境下使用、貯存和運輸。

包裝規(guī)格：

包裝：高壓無縫碳鋼鋼瓶

包裝規(guī)格：47L國標或DOT瓶、470L Y瓶等。

黎明院生產(chǎn)現(xiàn)狀：

黎明院現(xiàn)有一套年產(chǎn)500噸的三氟化氮生產(chǎn)線，以生產(chǎn)4N以上規(guī)格的產(chǎn)品為主，并可提供GB/T 21287-2007指標中其它規(guī)格產(chǎn)品。

2008年，黎明院NF3產(chǎn)品通過了中國臺灣某著 名企業(yè)嚴格的清洗蝕刻試驗，完全能夠滿足其生產(chǎn)需要，已進行了批量采購，目前反饋的使用報告表明黎明院NF3產(chǎn)品質(zhì)量良好，并確定黎明化工研究院為NF3氣體合格供應商。

2009年黎明院NF3生產(chǎn)工藝、質(zhì)量控制、分析方法及產(chǎn)品質(zhì)量通過了日本某著 名氣體廠商的仔細考察與嚴格檢驗，氣體檢測結(jié)果表明，黎明院的NF3產(chǎn)品質(zhì)量已達到國際先進水平，隨即與黎明院簽署長期合作協(xié)議，開始批量采購。

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