電氣性能的優(yōu)化可從如下方面考慮，即對已經存在和即將形成的位于接觸鍍層表面薄膜的控制。排針排母電氣性能的一個主要需求是建立和維持穩(wěn)定的排針排母阻抗。為達到這個目的，需要一個金屬接觸界面以提供這樣的固有穩(wěn)定性。建立這樣的接觸界面需要表面薄膜能在接觸配合的時候避開或分裂。這兩種不同的選擇明確了貴金屬或稀有金屬和普通金屬之間的區(qū)別。

在不同程度上，貴金屬鍍層(如金，鈀以及它們的合金)其本質對表面薄膜來說是游離的。對這些鍍層來說產生界面的金屬接觸相對較簡單，因為它僅僅需要接觸表面的伴隨物在配合時的移動。通常這很容易實現。為維持接觸界面阻抗的穩(wěn)定性，排針排母設計要求應注意保持接觸表面貴金屬性以防止外在因素如污染物、基材金屬的擴散以及接觸磨損的影響。

普通金屬鍍層，特別是錫或錫合金，其表現都自然覆蓋有一層氧化薄膜。錫接觸鍍層的作用，是因為這層氧化物容易在配合時候被破壞，這樣金屬接觸就容易被建立起來。排針排母設計的需求是能保證氧化膜在排針排母配合時破裂，而在電連執(zhí)著器的有效期內確保接觸界面不再被氧化。再氧化腐蝕，在磨損腐蝕中，是錫接觸鍍層主要的性能退化機理。排針排母銀接觸鍍層好被當作是普通金屬鍍層，因為該鍍層容易受到硫化物和氯化物的腐蝕。由于氣閥經物的形成通常也把鎳鍍層當作是普通金屬。