GRISH CMP拋光液均是以高純硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品，廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光，如：硅晶圓片、鍺片、化合物半導(dǎo)體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學(xué)器件、藍(lán)寶石片等的拋光加工。具有應(yīng)用領(lǐng)域廣、拋光效率高、雜質(zhì)含量低、拋光后容易清洗等特點(diǎn)。如：硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件、寶石等的拋光加工?？缮a(chǎn)不同粒度（10~150 nm）的產(chǎn)品滿足用戶需求。根據(jù)pH值的不同可分為酸性拋光液和堿性拋光液。

產(chǎn)品的特點(diǎn)：

1. 高拋光速率，利用大粒徑的膠體二氧化硅粒子達(dá)到高速拋光的目的（可以生產(chǎn)150 nm）

2. 粒度可控，根據(jù)不同需要，可生產(chǎn)不同粒度的產(chǎn)品（10-150 nm）

3. 高純度（Cu2+含量小于50 ppb），有效減小對電子類產(chǎn)品的沾污

4. 高平坦度加工，本品拋光是利用SiO2的膠體粒子，不會對加工件造成物理損傷，達(dá)到高平坦化加工

拋光液基本性質(zhì)

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