光敏印章的原理：光敏技術(shù)指的是利用光敏材料的感光特性進行印章制作的方法。專用的光敏材料是一種超微泡材料，其表面的微孔孔徑非常小，平均孔徑小于30微米。本身具有儲油滲油及光閃熔特性。光敏材料在受到強光照射的時候，可以吸收光能并轉(zhuǎn)換成熱能，顏色越暗吸收的能量越多。曝光時，光敏材料表面見光部分瞬間吸收大量的光能后，溫度迅速上升并達到熔點，閃光結(jié)束后，表面熔體的溫度迅速降低，形成一定厚度和強度的薄膜，這層薄膜同時起到封孔閉孔的作用，并隔絕印油的滲透。這就是光敏章成像的原理。利用光敏材料的這一特性，用激光打印機將章稿打印在具有透光特性的硫酸紙或激光膠片上，將其覆蓋在光敏材料上后放在曝光機內(nèi)曝光，由于章稿本身具有黑度不能透光，因而章稿覆蓋的光敏材料沒有受到光照仍然可以儲油滲油，而其他部分則由于受到光照發(fā)生凝固不能滲油，從而實現(xiàn)了印章的制作。由于激光打印機的打印精度在1200DPI以上，加之光敏材料本身的超微孔結(jié)構(gòu)，因此，光敏印章的精度比采用激光雕刻的印章或其它技術(shù)方式制作的印章的蓋印精度高出許多，是目前印章制作精度的一種印章。